Τι είναι ο ψεκασμός των υπερήχων ηλιακών κυττάρων;
Το Ultrasonic Spray είναι μια μοναδική τεχνολογία ψεκασμού, η οποία βασίζεται στην τεχνολογία ακροφυσίων ψεκασμού υπερήχων. Το υλικό που ψεκάστηκε είναι πρώτα σε μια υγρή κατάσταση, η οποία μπορεί να είναι ένα διάλυμα, SOL, εναιώρημα κλπ. Η υγρή επίστρωση πρώτα ασκείται σε λεπτά σωματίδια μέσω μιας συσκευής υπερηχητικής ψεκασμού και στη συνέχεια ομοιόμορφα επικαλυμμένη στην επιφάνεια του υποστρώματος με ορισμένο ποσότητα ρεύματος μεταφοράς αερίου, σχηματίζοντας επίστρωση ή λεπτή μεμβράνη. Σε σύγκριση με τον παραδοσιακό πνευματικό ψεκασμό δύο υγρών, ο ψεκασμός υπερήχων ψεκασμού μπορεί να επιτύχει καλύτερη ομοιομορφία, λεπτότερο πάχος επικάλυψης και υψηλότερη ακρίβεια. Εν τω μεταξύ, λόγω του γεγονότος ότι τα υπερηχητικά ακροφύσια δεν απαιτούν βοήθεια πίεσης αέρα για ψεκασμό, η χρήση του υπερηχητικού ψεκασμού μπορεί να μειώσει σημαντικά την εκτόξευση χρώματος κατά τη διάρκεια της διαδικασίας ψεκασμού, επιτυγχάνοντας το στόχο της αποθήκευσης χρώματος. Ο ρυθμός χρησιμοποίησης βαφής του υπερήχου ψεκασμού είναι περισσότερο από τέσσερις φορές εκείνος του παραδοσιακού ψεκασμού δύο υγρών.
Αρχή:
Επιτυγχάνεται με τη μετατροπή των ηχητικών κυμάτων υψηλής συχνότητας σε μηχανική ενέργεια μέσω πιεζοηλεκτρικών μετατροπέων και στη συνέχεια μετατρέποντας τη μηχανική ενέργεια σε υγρό. Αυτή η κατακόρυφη δόνηση προς τα πάνω και προς τα κάτω παράγει σταθερά κύματα στην υγρή μεμβράνη στην άκρη του ακροφυσίου του κατασκευαστή εξοπλισμού ψεκασμού υπερήχων, όπου το πλάτος αυτών των κυμάτων μπορεί να ελεγχθεί από μια γεννήτρια ισχύος. Αυτά τα σταθερά υγρά κύματα μπορούν να επεκταθούν προς τα πάνω από την κορυφή του υπερηχητικού ακροφυσίου και όταν τα σταγονίδια εγκαταλείπουν την επιφάνεια ψεκασμού του ακροφυσίου, αποσυντίθενται σε λεπτή ομίχλη ομοιόμορφου μικρομέτρου ή ακόμα και σταγονιδίων μεγέθους νανομέτρου.
Εφαρμόζεται σε επικαλύψεις ηλιακών κυττάρων:
Η τεχνολογία υπερήχων ψεκασμού μπορεί να καταθέσει επιτυχώς αντανακλαστικά στρώματα, επικαλύψεις TCO, επικαλύψεις ρυθμιστικού στρώματος, PEDOT, καθώς και ενεργά στρώματα στην κατασκευή ηλιακών κυττάρων λεπτού φιλμ και περοβσκίτη. Το OPV, το CIG, το CDTE, το CZT, το Perovskite και το DSC είναι λύσεις και εναιωρήματα που μπορούν να κατατεθούν χρησιμοποιώντας τεχνολογία υπερηχητικών υγρών ψεκασμού στην κατασκευή ηλιακών κυττάρων λεπτού φιλμ. Ως μικρό μέρος του κόστους του εξοπλισμού CVD και του ψεκασμού, το σύστημα ακροφυσίων υπερηχητικής ψεκασμού μειώνει το κόστος ανά watt της κατασκευής ηλιακών κυψελών λεπτών φιλμ, ενώ παράλληλα παρέχει υψηλή απόδοση της μπαταρίας.
Η μηχανή ψεκασμού υπερήχων είναι ένα μικρό μέρος του κόστους του εξοπλισμού ψεκασμού και CVD και το σύστημα χρησιμοποιείται για την έρευνα και την ανάπτυξη του ψεκασμού Perovskite και άλλων εφαρμογών παραγωγής ηλιακών ταινιών λεπτής ταινίας. Η τεχνολογία υπερήχων ψεκασμού, ως εφικτή μέθοδος για την αναβάθμιση σε μεγαλύτερη και υψηλότερη χωρητικότητα, η ηλιακή παραγωγή ηλιακής μεμβράνης, κερδίζει συνεχώς την αναγνώριση. Η επικυρωμένη διαδικασία Ε & Α διαδραματίζει σημαντικό ρόλο στην παραγωγή μεγάλης κλίμακας τεχνολογιών ηλιακών κυττάρων και επικαλύψεων ηλιακών κυττάρων λεπτών φιλμ για πολλά διαφορετικά στρώματα και τύπους.
Κβαντική κουκκίδα:
Οι νανοκρυσταλλικές κουκίδες ημιαγωγού περιέχουν Zn, Pb, Cd και Se. Τα πλεονεκτήματα του υπερηχητικού ψεκασμού περιλαμβάνουν σημαντική μείωση του κόστους κεφαλαίου εξοπλισμού για τις αρχικές επενδύσεις, τον αποπολυμερισμό των αιωρούμενων σωματιδίων κατά τη διάρκεια της διαδικασίας ψεκασμού, τις επικυρωμένες κλιμακωτές λύσεις παραγωγής που μπορούν να μεταφερθούν από την έρευνα και την ανάπτυξη στην παραγωγή μέσω της διαδικτυακής επεξεργασίας και έως και 95% μεταφορά Αποδοτικότητα, μειώνοντας την κατανάλωση δαπανηρών πρώτων υλών.
Πλεονεκτήματα επικάλυψης για ηλιακά κύτταρα:
1. Το μοτίβο ψεκασμού είναι εύκολο να διαμορφωθεί και είναι κατάλληλο για εφαρμογές επικάλυψης των ηλιακών κυττάρων.
2. Μπορεί να ψεκάσει οποιοδήποτε σχήμα αντικειμένου για να σχηματίσει μια ομοιόμορφη επίστρωση επιπέδου μικρού.
3. Αυτο -καθαρισμός, μη φραγκοστάφυλα ακροφυσίων υπερήχων μπορούν να μειώσουν το χρόνο διακοπής της κρίσιμης κατασκευής.
4. Με εξαιρετικά χαμηλή χωρητικότητα ροής, μπορεί να λειτουργήσει διαλείπουσα ή συνεχώς.
5. Η εξαιρετικά ελεγχόμενη ποσότητα ψεκασμού καθιστά την ποιότητα ψεκασμού πιο αξιόπιστη.
6. Κατανάλωση χαμηλής ενέργειας, υψηλή απόδοση ψεκασμού και ελάχιστοι περιορισμοί σε ψεκασμένα υγρά.
7. Υψηλή απόδοση μετάδοσης, η οποία μπορεί να μειώσει τα απόβλητα και την ατμοσφαιρική ρύπανση που προκαλείται από τον αντίστροφο ψεκασμό και να εξοικονομήσει πολλά έξοδα.
8. Καμία πίεση, χωρίς θόρυβο και καμία φθορά σε κινούμενα μέρη.
9. Ο δράκος πάγου ψεκασμού είναι κατασκευασμένος από υλικό κράματος τιτανίου, το οποίο έχει τα χαρακτηριστικά της υψηλής αντοχής και της αντοχής στη διάβρωση.
10 χαμηλού χρόνου συντήρησης, βελτιώνοντας περαιτέρω την παραγωγικότητα.
11. Βαλβίδα μείωσης της πίεσης υψηλής ακρίβειας και βαλβίδα ελέγχου υγρού, επιτυγχάνοντας συντονισμό αερίου-υγρού σε διάφορες ταχύτητες. (Πλήρες μηχάνημα)
12. Χρησιμοποιήστε την ευθυγράμμιση λέιζερ για να ευθυγραμμίσετε γρήγορα τη θέση ψεκασμού. (Πλήρες μηχάνημα)
13. Μπορεί να λειτουργήσει σε υψηλές θερμοκρασίες αρκετών εκατοντάδων βαθμών και χρησιμοποιείται για την επικάλυψη ηλιακών κυττάρων, με απλή διαδικασία και υψηλή απόδοση
